研究開発&少量生産向け
 
拡張型スピンプロセッサー



KMX 株式会社カナメックス

会社案内 製品案内 デモ・実験設備 カタログ 採用情報 更新日 2011/12/24

半導体前工程/先端実装/MEMS/FPD分野におけるフォトリソグラフィ関連等の
ウエットプロセス装置の設計製作を致します。

レジストコート
レジストコート
現像
現像
エッチング
エッチング
剥離
剥離
洗浄
洗浄

トピックス

セミコンジャパン 2011 ご来場有難うございました。


2011年 4月   京都大学 次世代低炭素ナノデバイス創製ハブ拠点
           WEBサイトにKシリーズが掲載されました。


2010年 5月    Kシリーズ SiC用洗浄装置 リリース

2009年 9月16日 半導体産業新聞の洗浄装置特集に記事が掲載されました。

2009年 3月21日 研究開発&少量生産向け 拡張型スピンプロセッサー リリース

2008年 9月24日 半導体産業新聞に記事が掲載されました。

2008年 7月11日 日本経済新聞に記事が掲載されました。
















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 FAX  046-270-7778


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